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膜厚加工沉積是半導(dǎo)體、微電子、集成電路制造中的重要環(huán)節(jié)，膜厚量值大小，直接影響電子產(chǎn)品的質(zhì)量、功能、可靠性及壽命。因此，膜厚量值的準(zhǔn)確測量和溯源成為保證電子產(chǎn)品質(zhì)量和相關(guān)產(chǎn)業(yè)發(fā)展的關(guān)鍵。近日，我院機(jī)械研究所作為參比實(shí)驗(yàn)室參加了中國計(jì)量科學(xué)研究院組織的B類國家計(jì)量比對(duì)——“金屬膜厚量值計(jì)量比對(duì)”，測量結(jié)果與參考值之差在合理范圍內(nèi)，比對(duì)結(jié)果為滿意。

作為國家和四川省法定計(jì)量技術(shù)機(jī)構(gòu)，我院自建立鍍層測厚儀及鍍層膜厚計(jì)量標(biāo)準(zhǔn)以來，每年為全國各地?cái)?shù)百臺(tái)/件鍍層測厚儀及鍍層厚度標(biāo)準(zhǔn)片提供校準(zhǔn)服務(wù)，為國防軍工、半導(dǎo)體、集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展發(fā)揮了積極作用。

注：L8為中國測試技術(shù)研究院